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搜了網(wǎng)>視頻>吉致電子芯片拋光液，更高精度的半導體CMP Slurry 視頻
視頻介紹
CMP化學機械拋光技術的核心原理，是通過化學試劑與芯片表面材料發(fā)生反應，再結(jié)合機械研磨作用，實現(xiàn)芯片表面的高效去除與全局平坦化，既能清除多余的金屬層、介質(zhì)層，又能保證表面無明顯缺陷、無化學殘留，為后續(xù)的光刻、蝕刻等工藝奠定基礎。
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